返信先: ストレート② 【山中さんのチュートリアル】

[山中麻莉菜]

●施術前の髪（や肌）の状態
・１０代男性　比較的柔らかい髪の毛
・全体にゆるく毛先が曲がる程度のうねる癖
・襟足に軽い生え癖
・２ヶ月前にトーンダウンのカラー
・ダメージレベル２程度。アイロンによるパサつきが見られる。

●目指す仕上がり
・アイロンの手間を省くまたは補助のため、うねりを取り、他の部分と馴染む自然なストレートを目指します。
・施術箇所は襟足部分のみ。

●施術前の髪（や肌）の状態から考えた施術工程
・トイトイトーイシャンプー/タオルドライ
↓
・前処理
浸透促進原液：neoミスト５倍希釈→３種混合原液：neoミスト５倍希釈→特トリ→チェンジリンス
↓
・１剤（襟足部分のみ）
ソニルクリープH＋TIO２０％塗布→5分放置→水洗→タオルドライ
↓
・クリープ
リケラプラス３Dリノベータークリーム＋BYAC20%塗布（ハイライトペーパーでストレート状態に）→遠赤外線照射器２０分
↓
・中間処理
シブミンEX（5倍希釈）→ヘマヘマ（１０倍希釈）→3種混合原液：neoミスト５倍希釈→ハイエマルジョン→キトキト（１０倍希釈）→チェンジリンス→水洗→タオルドライ
↓
・ドライ/アイロン
リケラミスト→８割ドライ→１８０度アイロン
↓
・２剤
過水クリーム塗布（ハイライトペーパーでストレート状態に）→10分放置
↓
・後処理
シブミンEX(５倍希釈)→ヘマヘマ(１０倍希釈)→リケラエマルジョン→キトキト(１０倍希釈)→チェンジリンス→水洗
↓
・仕上げ
ガルバCMCケアミスト

●各施術工程の意図
・前処理
浸促ミスト→路づくり、薬剤の浸透を助ける。
３種ミスト→穴埋め。
特トリ→念のため保険的な保護目的。

・１剤（襟足部分のみ）
ソニルクリープH＋TIO２０％→今回も自然な仕上がり、短時間水洗のためリキッドタイプを使用。濡れた状態でも癖が見られるため、チオを２０％プラス。

・クリープ
ストレート状態を保ちつつ遠赤外線を当てることで分子振動を促進。AEDSケラチン導入・強度アップしながらクリープ。

・中間処理
シブミンEX→消臭。
ヘマヘマ→還元剤封鎖。
3種ミスト・ハイエマルジョン→穴埋め・CMC補給・収斂。
キトキト→pH調整・キューティクル補修。

・ドライ/アイロン
リケラミスト→熱ダメージ予防。

・後処理
シブミン→消臭。
ヘマヘマ→デトックス念押し。
リケラエマルジョン→質感アップ・収斂。
キトキト→等電点に戻す。キューティクル補修。

●修正を加えた箇所
・中間処理
3種混合原液：neoミスト５倍希釈→ハイエマルジョン
↓（変更）
3種混合原液：neoミスト５倍希釈→リケラエマルジョン→特トリ

・２剤
過水クリームに東京カラーパレット黒鳶１０％添加

●修正の理由
・中間処理
トリートメントが追加されたため。

・２剤
アイロン後褪色が見られたため。

●結果及び考察
狙っていた自然な仕上がり。
今回施術しなかった部分とも十分馴染んだと思います。

Attachments:

You must be logged in to view attached files.